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碳化硅沉积炉

碳化硅沉积炉

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产品描述

用途:

CVD气相沉积炉用于烧结碳碳及碳陶复合材料产品.

主要配置:

1.卧式炉体,双层炉体结构,水冷夹套设计。

2.炉膛内由发热元件,保温层,测温热电偶,监测热电偶组成

3.发热元件沿炉膛内壁均匀布置,有利于加热,温度均匀性好

4.PLC加触摸屏/工控机操作方式,有报警功能,自动化程序高,安全可靠

技术特征:

1.采用进的控制技术,能精确控制MTS的流量和压力,炉膛内沉积气流稳定,压力波动范围小;

2. 采用特殊结构沉积室,密封效果好,抗污染能力强; 

3. 采用多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;

4. 对沉积产生的高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物能进行有效处理;

5. 采用全新设计防腐蚀真空机组,持续工作时间长,维修率极低。

 产品规格:

参数型号

VCVD-0508- SIC

VCVD-1218- SIC

VCVD-1520- SIC

工作区尺寸W×HXL(mm)

600×600×1200

1000×1000×1200

1200×1200×2000

装载重量(kg)

300

1000

2000

温度(℃)

1500

1500

1500

温度均匀性(℃)

±7

±10

±10

加热功率(kW)

130

300

500

极限真空度(Pa)

20

20

20

压升率(Pa/h)

0.67

0.67

0.67

 

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